高纯二氧化硅，通常指含有的金属杂质总量小于十万分之一，单个非金属杂质含量小于十万分之一的二氧化硅，主要是作集成电路封装剂的填料和制造高纯石英玻璃的原料。

高纯二氧化硅，通常指含有的金属杂质总量小于十万分之一，单个非金属杂质含量小于十万分之一的二氧化硅，主要是作集成电路封装剂的填料和制造高纯石英玻璃的原料。

高纯二氧化硅，通常指含有的金属杂质总量小于十万分之一，单个非金属杂质含量小于十万分之一的二氧化硅，主要是作集成电路封装剂的填料和制造高纯石英玻璃的原料。